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第480章 真假1微米(3)

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“这个项目要严格保密!多重图案技术,绝对不可以外传。它会一直保密。一直到我们的真1微米工艺出来,直到我们的晶圆产业走上正轨。”

成永兴的一句话,就浇灭了两个伙伴的热情。

“真1微米?怎么工艺还出来真假了?”

“对,这个多重图案化技术,就是个假的。”

“那真的是什么样的?”

两个人都来了兴趣。孙悟空有真假,是因为有人冒充。怎么工艺还有真假?能实现,就是真的啊!

“真的工艺技术,是靠真功夫,而不是这种取巧的方法。”

“工艺上哪有取巧的方法,你的ODF难道不是取巧?”

叶静一撇嘴,对这种奇谈怪论不以为意。

这位同乡,是个实用主义渗透到骨子里的人。黑猫白猫论,天天挂在他的嘴上。

为了达到目的,想出来的各种奇思怪想,经常让人觉得匪夷所思。

这些方法,在科班出身的人眼里,很多都是离经叛道,甚至是大逆不道的事情。

别人搞自动化,他搞人海战术。别人搞流水线,他用小推车。

好好的一个LCD车间,现在被分割成了大大小小的一堆小房子。人员出来进去,要不断的沐浴更衣。

为了解决这个问题,大家不得不考虑在车间内部,再搭建一个空中走廊,为这些操作员工及工件提供一个快速通道。

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王青山一帮人,没事的时候,也对成永兴的奇怪思维方式进行了一些总结。

最后大家达成了一致看法,那就是他的这种思维方式,完全是由于其没有受过正统教育造成的。

这个年轻人,出名太早,太快,导致他根本来不及接受正常教育。在这种情况下,他还要做事情,自然,乱七八糟的东西就来了。

不过让大家比较无法理解的,不是这名年轻人的才华,而是他的运气。这些乱七八糟的东西,反科学,反传统,反理论的方法,居然还能用!

这让一大批学工艺的,学设备设计的硕士,和博士,到哪里说理去?

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“不谈这个问题了。多重图案化技术,一定要严格保密。它的密级甚至在ODF之上,我们要做好三,五年之内,不对外宣布的心理准备。”

“这又是为了什么?为什么有成果不宣布?”

两个人倒不是对出名感兴趣。

自从进了LCD项目组,这一年多,两个人是一篇论文都没有发表过,反而是童子军的师弟,师妹们,还在不断发表成果。

但他们也不嫉妒。随着视野的不断提高,人的想法也慢慢变了。既然走上了这条不归路,就继续走下去把。

他们现在只是单纯的好奇。

随着全彩的TFT-LCD的面世,ODF工艺早晚也会被人知道。虽然这种解密的过程不是主动的,但天下没有不透风的墙。

TFT-LCD生产车间,虽然禁止外人参观,但是设备厂家的人总要在场吧。整个生产线上涉及到的设备,上百种,也就是说,大量设备厂家的人,都能够进入到生产车间。

TFT-LCD也不是第一天才出现,它只是第一次出现在大尺寸的显示器里。

这个生产过程中,该有什么,不该有什么,大家也都知道。就是以前不清楚,现在也该清楚了。别的不说,没有毛细法这一件事情,本身就把秘密泄露出去了。

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“不为什么。就是这样。”

这个技术的影响力,在后世看,也许还感觉不到什么,因为这已经是一个被普遍采用的技术。

但在这个时代,它就是核弹级的技术。它可以使晶圆工艺,直接向前推进十年!

中国的晶圆工艺,比国外落后十年,靠着一个工艺,就可以追平,甚至赶超。

那这样不是挺好的吗?

好什么?

这个技术一旦流传出去,后果是什么?

4.86直接就变成100.86了!

全世界的半导体工艺,直接就跳入到纳米时代了。

这个技术对弱者而言,只是给他们加装了一条腿,让残疾人可以站起来。但是对于强者来说,那就是加装了翅膀!直接飞向宇宙了!

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在这个时代,中国在半导体方面的力量,实在是太弱了。

半导体设备落后,芯片设计上基本空白,晶圆厂,有也基本上等于没有。

新世纪中国在半导体产业,虽然落后,但是追的速度还算可以。其中一个很大原因,就是整个世界,半导体产业的科技进步速度,实际上放缓了。

摩尔定律,某种程度上已经失效。世界在14nm上停留了三四年。这里的典型,就是intel在10 nm上停留了接近5年时间。这种技术上的停顿,给后来者带来了机会。

在这个时代,如果公开了这个技术,带给这些落后国家的芯片产业,那可真是降维打击了。

如果没有这个技术,中国的半导体技术,还有芯片设计,在玩具,盗版游戏机的带动下,仍然可以缓慢发展。

虽然落后,但慢慢的,底蕴还是在增长。人才,技术,经验,也在慢慢积累。

正是这些一点一滴的积攒,才给后世的厚积薄发,提供了一个很好的平台。

在新世纪,为什么中国可以在半导体产业取得巨大的成功?

没有531,907,908,909等一系列工程,培养出来的大批人才,怎么可能?

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但在这个时代,中国并没有准备好接受这种先进武器。

第一,这个时代,没有晶圆代工产业。

这就意味着,没有独立的芯片设计公司。这个芯片厂,能发挥多大作用呢?

第二,没有市场。

现在所有的晶圆厂,都是为特殊需求定制。这个工厂,如果仅仅是为了LCD芯片而创建,产量可以自足,但根本没有发展空间。没有足够的利润牵引,先进的技术也会慢慢落后。

日本的几家光刻机厂是怎么衰落的,就是在光刻机领域,他们整整损失了一代的订单,然后就彻底失去了发展的机会。

在半导体下游产业没有发展起来的时候,这个技术宁可毁掉,也不能让它流传出去。

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“好吧,你说什么就是什么了!你说的真1微米指的是什么?”

“这里面涉及了一个关键CMP抛光技术。它是我们继续向下突破的关键。”

其实在整个90年代,制约芯片进程的关键,都不是光刻机。而是其它技术。

在接下来几年,晶圆工艺进步,其中最重要的就是CMP技术。

集成电路制造过程好比建房子,每搭建一层楼层都需要让楼层足够水平齐整,才能在其上方继续搭建另一层楼,否则楼面就会高低不平,影响整体可靠性。

使楼层整体平整的技术,在集成电路中制造中用的就是抛光技术。

CMP技术,是普通抛光技术的高端升级版本。

这个技术,它是从0.35微米步进到0.25微米的关键工艺。为了制造多层结构的3D高密度集成电路,必须使用CMP平坦化技术,代替传统的方法。

这个技术,真正进入视线,就是从92年6月开始。它的大规模普及,则是在94年以后。

成永兴对CMP技术抱以厚望。希望这个在更高制程上使用的关键技术,可以作为降维打击的武器,拉动现在中国的晶圆技术,强行上个台阶。

此时中国从2微米到1微米,到底是被什么技术卡住了,他还真不知道,因为后世没有这方面的资料。

术业有专攻。每一个子方向,都代表着全新的专业和技术。

机械,化学,材料,物理,光学,电子,量子,算法,除了核物理,其他的,但凡能想到的,都在晶圆产业里被涉及了。

LED时代,成永兴可以靠小聪明加刻苦,冒充一把天才。

到了LCD时代,他就无法介入到细节工作,因为LCD所涉及到的领域,已经过于庞大和庞杂。

而到了晶圆时代,如果他再跑到前线去冒充专家,那就是自取其辱了。

他需要做的,就是给冲锋在前的战士们,指引正确的前进方向。

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